2)第172章 EUV光刻机?_科技帝国从山寨系统开始
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  其中大夏的激光产品销售也是长期达到了全球市场的百分之五十,可以说这是少有的技术领先情况!

  “不行,KBBF激光晶体造不了光刻机,KBBF晶体的激光太猛了,射出的激光(EUV)极深紫外光太过锋利。

  一不小心就会损坏整个芯片无法使用,除非我们的控制精度与对准成像系统能达到让人惊讶的程度,否则极深紫外光我们绝对无法使用。”

  目前市面上的光刻机采用的是紫外光源,紫外光源分为紫外光(EV),深紫外光(DUV),极紫外光(EUV)。

  其中光源越到后面波长就越短,光刻的刀也就越锋利,对于精度的控制要求就越高。

  所以目前世界上没有光刻机采用极深紫外光(EUV),作为光源制作光刻机。

  毕竟以目前几十纳米的制程工艺,也不需要这样高精密的光刻机,目前绝大部分光刻机还是使用紫外光(EV)。

  只有最前沿的45纳米制程工艺,才使用EUV之前的深紫外光源,也既是DUV光刻机。

  至于更下一步EUV光刻机,那目前更是没有,之所以没有,这是因为目前没有这方面的需求。

  当然真实原因是想研发这样的EUV光刻机需要的成本也太高,不下于从零开始设计研发,所以目前市面上并没有这样的EUV光刻机出现。

  “没错,光刻机可不容易制造,你可能是其他领域的,所以有些想当然了,光是镜片就能把我们卡死。”

  此时人群前排的一个博士,也说出了想造光刻机不容易。

  在他看来光刻机最难的就是镜头部分。

  光刻机需要的镜面误差十分之小,镜面误差不能大于零点零五微米。

  这误差的范围用个形象的比喻,如果把镜面误差比喻成天涯海角岛的话,那么整个天涯海角岛的平整度误差不能大于十毫米!

  而最为恐怖的是这样的镜片不只是一个,因为镜片这东西其实是有成像误差的,这成像误差在光刻生产环节的影响十分之严重。

  因为偏差一点就会把整个芯片损坏,毕竟那可是几十纳米的大小,光照到了不该照的地方,最后制造成成品时肯定会短路!

  所以为了解决成像误差,光刻机就需要非常多的镜片来解决成像误差的问题。

  这也是为什么很多昂贵的摄像机或相机的镜头,为什么会那么长。

  原因其实和光刻机面临的问题一样,为了解决成像误差的问题,所以相机镜头里面有着非常多的镜片!

  这些镜片都是高精度镜片,相互之间精度要求非常之高,所以会出现一个镜头会比相机还贵的现象。

  而且别的不说,就说后世的手机镜头模块里面,其实有着五到六片镜片!

  而光刻机自然比相机与手机镜头要求高,所以现在的光刻机随着越来越深入几十纳

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